उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक्स और सूचना उद्योगों में उपयोग किए जाते हैं, जैसे एकीकृत सर्किट, सूचना भंडारण, लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, लेजर मेमोरी, इलेक्ट्रॉनिक नियंत्रण उपकरण, आदि, इसका उपयोग पहनने के लिए प्रतिरोधी सामग्री, उच्च तापमान और संक्षारण प्रतिरोध, उच्च अंत सजावटी आपूर्ति और अन्य उद्योगों में भी किया जा सकता है।

उन्नत मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग से लैस, जो इलेक्ट्रॉन गन सिस्टम का उपयोग करके प्लेटेड की जा रही सामग्री पर इलेक्ट्रॉनों को उत्सर्जित और केंद्रित करता है ताकि स्पटर किए गए परमाणु गति रूपांतरण के सिद्धांत का पालन करें और उच्च गतिज ऊर्जा के साथ सामग्री से अलग हो जाएं। बाजार में मौजूद उत्पादों की तुलना में, हमारा उच्च शुद्धता वाला स्पटरिंग लक्ष्य पतली फिल्म सामग्री के लिए स्पटरिंग तकनीक को अपनाता है। यह स्रोत द्वारा उत्पन्न आयनों का उपयोग वैक्यूम में सांद्रता को तेज करने के लिए करता है ताकि एक उच्च गति वाली ऊर्जा आयन किरण बनाई जा सके, जो ठोस सतह पर बमबारी करती है, और आयन ठोस सतह के परमाणुओं के साथ गतिज ऊर्जा का आदान-प्रदान करते हैं।

शुद्धता: शुद्धता लक्ष्य सामग्री के मुख्य प्रदर्शन सूचकांकों में से एक है क्योंकि लक्ष्य सामग्री की शुद्धता का फिल्म के प्रदर्शन पर बहुत प्रभाव पड़ता है।

हालाँकि, व्यवहार में, लक्ष्य सामग्री की शुद्धता के लिए अलग-अलग आवश्यकताएं भी होती हैं।

अशुद्धता सामग्री: लक्ष्य सामग्री में ठोस अशुद्धियाँ और ऑक्सीजन और नमी की छिद्रता जमाव फिल्म के मुख्य स्रोत हैं। लक्ष्य के विभिन्न उपयोगों में अशुद्धता सामग्री के लिए अलग-अलग आवश्यकताएँ होती हैं, उदाहरण के लिए, अर्धचालक औद्योगिक शुद्ध एल्यूमीनियम और एल्यूमीनियम मिश्र धातु सामग्री में, क्षार धातु सामग्री और रेडियोधर्मी तत्व सामग्री की विशेष आवश्यकताएँ होती हैं।

लक्ष्य की शुद्धता जितनी अधिक होगी, फिल्म का प्रदर्शन उतना ही बेहतर होगा। हमारा उच्च शुद्धता वाला टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य 99.995% की शुद्धता को पूरा कर सकता है।

डीटी: विनाशकारी परीक्षण, भौतिक गुण परीक्षण, कठोरता परीक्षण, रासायनिक संरचना परीक्षण।

एनडीटी: गैर-विनाशकारी परीक्षण, अल्ट्रासोनिक परीक्षण, प्रवेश परीक्षण, उपस्थिति परीक्षण।

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